서울대학교 응용물리연구소

공지사항

[클린룸] XeF2 Etcher 고장 및 사용법 변경 안내

2024-07-08l 조회수 437

XeF2 점검 결과 DG2 게이지(Reaction Chamber; RC)고장으로 교체가 필요합니다.

다만 교체까지는 시간이 걸리고 Tank 압력으로 RC압력이 어느정도 예상되기 때문에 (Tank 압력의 50~70%) 사용은 가능합니다.

예약은 닫지 않고 열어둘 예정이니 위 방법으로라도 사용을 원하시는 분은 사용하실 수 있습니다.

두번째로 XeF2 소스관련하여,

XeF2 가스가 정상적으로 공급되지 않는 이유는 두가지 중 하나로 예상됩니다.

1. 소스 부족
현재 소스값이 계속 오르고 있어 소스가 부족하든 하지 않든 소스 구입은 진행합니다.
소스부족이 확실할 경우 구입한 소스로 교체할 것이며, 소스부족이 아닐 경우 Spare로 재고 확보할 예정입니다. 

2. 실험실 내부 온도 문제
XeF2 소스는 고체 상태로 장비내 heater로 소스를 기호시켜 사용하는 방식입니다.
여름과 장마의 시작으로 실험실 내부 에어컨 설정 온도가 낮아지면서 소스가 기화되지 못해 공급이 되지 않았을 수 있습니다.
다만 다른 장비들 문제로 현재 에어컨 설정 온도보다 더 온도를 높일 수는 없습니다.

현재 1,2 중 어떤 문제로 소스공급이 되지 않는지 알수 없는 상황입니다.

이에 장비를 상시 가동하여 heater를 끄지 않고 사용할 예정입니다.
System Shutdown 대신 Manual Purge 를 진행해 주시기 바랍니다. 
변경된 메뉴얼은 아래 첨부되어있습니다.
 첨부파일 (1개)