클린룸 리소(Lithography, milling) 장비
포토레지스트 노광기(Mask Aligner) Mask Aligner
| 모델명 | MDA-400S |
|---|---|
| 제조사(제조국) | MIDAS (Kor) |
| 구입연도(제작연도) | 2014-02-24 |
| 용도 | photo lithograpy (Light exposure equipment with aligning of photo-mask and wafer.) |
| 사용료 | 유저등록비 포함 |
| 장소 | 22-118 |
| 비고 | Mask 개별 구비 |
성능● Type : Full automatic (Mask Aligner)
● Mask size : up to 5" x 5" ● Wafer size: 4’’, 6’’ (조각 시편 사용 가능) ● Substrate size : up to 4" / 6“ ● UV lamp & Power : Light source: 350 Watt Mercury lamp & Intensity controllable power supply ● Uniform beam size : 6.25" x 6.25“ ● Beam Uniformity : <±3% ● Beam wavelength : 350 ~ 450nm ● 365nm Intensity : ~25mW/cm2 ● Alignment accuracy : 1um ● Process resolution : 1um@1um PR thickness with vacuum contact ● Process mode : Soft, Hard, Vacuum contact & Proximity ● Substrate chuck moving : x,y,z & θ (Motorized) ● Options : UV Intensity meter , UV-LED(365nm) exposure module , etc. ● Frame : Anti-Vibration system ● Pre-aligner : ±50um |
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