[클린룸] XeF2 Etcher 소스교체 완료
XeF2 소스 교체가 완료되어 사용가능합니다.
DG2 게이지(Reaction Chamber; RC) 교체는 시간이 더 걸릴 예정입니다.
다만 Tank 압력으로 RC압력이 어느정도 예상되기 때문에 (Tank 압력의 50~70%) 사용은 가능합니다.
장비는 사용 후 Shut-down하시고, Shut-down이 안될 경우 Manual Shut-down을 진행해 주시기 바랍니다.
(첨부된 매뉴얼 참조)
첨부파일 (1개)
- xef2 etcher manual(24.10.28).pdf (2 MB, download:23)