서울대학교 응용물리연구소
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[클린룸] ALD 사용 가능 온도 변경 안내
2025-05-09
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조회수 26
200 C° 초과한 고온으로 Chamber(substrate) Temp. 설정시
vacuum이 잡히지 않는 문제가 발생하여
ALD Chamber (substrate) Temp.를 기존 150 C° ~ 270 C°에서
150 C° ~
200 C°
로 변경합니다.
사용시 유념해 주시기 바랍니다.
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