[클린룸] ALD 사용 안내(필독_사용법 변경)
ALD 수리가 완료되어 사용가능합니다.
다만 문제 발생 소지가 남아 있으므로 실험이 정상적으로 진행되지 않을 경우 바로 관리자에게 연락주시기 바랍니다.
장비 사용전 아래 내용을 꼭 숙지해 주시기 바랍니다.
1. 개인 Recipe 사용 불가
개인 Recipe 사용을 불허하며, Standard Recipe만 사용 가능합니다.
또한 더 안정적으로 Recipe를 병경함에 따라 Process시간도 증가했습니다.
예약전 아래 내용을 참고해 주시기 바랍니다.
a. Al2O3 증착 시간 (Process name: 1-1.Standard_Al2O3(NCD))
- 100 Count = 1:12:20
- 150 Count = 1:46:00
- 200 Count = 2:19:40
b. HfO2 증착 시간 (Process name: 1-2.Standard_HfO2(NCD_New))
- 100 Count = 1:50:00
- 150 Count = 2:42:30
- 200 Count = 3:35:00
2. TEMAH(HfO2) Line Purge 방법 변경 (Al2O3는 동일)
기존 HfO2의 TEMAH Line을 DV2 Manual open로 Purge하였으나
앞으로는 저장된 Process를 실행하여 Purge해야합니다.
a. Process name: 2.HfO2 purge
b. 소요시간 = 00:15:30 (30 Count: Count 변경 금지)
d. H2O의 Line Purge는 기존 대로 DV4 Manual open로 Purge
*변경된 메뉴얼은 아래에서 다운받으실 수 있습니다.
3. HfO2 Line Purge 방법이 변경됨에 따라 Line purge와 Auto purge에 총 약 30분이 소요됩니다.
예약시 이 시간을 포함하여 예약해 주시기 바라며, 로그북 작성시에도 이시간을 포함하여 작성하시기 바랍니다.
- 사용 시작 시간: Log in시간
- 사용 종료 시간: Log Out 시간
첨부파일 (1개)
- ALD User's manual_2025.11.13.pdf (765 KB, download:22)