[클린룸] 클린룸 사용시 주의사항 안내 (통합_필독)
클린룸 사용할 때 다음의 사항들을 꼭 숙지해 주시기 바랍니다.
1. 클린룸의 보조 장금 창치는 정전 등의 이유로 클린룸 폐쇄시 사용하며, 평소에는 사용하지 않습니다.
유저들은 기존과 동일하게 에스원카드로 출입하시면 되며,
유저에게 비밀번호는 공유하지 않습니다.
보조 잠금장치가 작동중일 때 유저의 출입을 금합니다.
2. 클린룸 청소 과정에서 장비 및 악세스플로어 아래에서 다수의 유리와 카본테잎이 발견되었습니다.
사용자의 안전과 원활한 연구 활동을 위해
유리를 떨어뜨리신 경우 꼭! 회수 및 청소기로 청소해 주시기 바라며,
카본 테이프 사용시 바닥에 버리지 마시고 꼭 쓰레기통을 이용해 주시기 바랍니다.
3. Wet bench의 유기 폐수 싱크의 거름망이 파손되어 커버 글라스, 카본테이프, 웨이퍼 등의 이물질을 미리 거르지 않고
폐수를 버릴 경우 배수 라인이 막히게 됩니다. (실제 배수라인은 1/4" 정도로 싱크 구멍보다 작습니다.)
유기 폐수를 버리기 전 꼭 이물질을 미리 걸러주시기 바랍니다.
또한 Wet bench앞 의자 사용은 불가합니다.
발견시 경고조치하며, 페널티를 받으실 수 있습니다.
4. Maskless Aligner 사용중 Sample Fixation 과정에서
Chuck의 위치고정 Pin과 Screw를 잃어버리는 일이 빈번히 발생하고 있습니다.
4인치 웨이퍼를 사용하는 경우에만 아래쪽 Screw를 제거하시고
실험이 끝난 경우 다시 Screw를 장착해 주시기 바랍니다.
조각 Sample을 사용하는 경우에는
실험이 끝난 후에도 Screw부분을 따로 만지실 필요가 없습니다.
4인치 웨이퍼를 사용하는 경우 외에는 절대 Screw를 제거하지 마십시오.
모든 조각샘플은 Screw 하나만 필요합니다.
또한, 분실시 장비 사용 부주의로 패널티 적용 예정입니다.
사용전 로그북 날짜 왼쪽 빈공간에 현재 부품 갯수를 '2/5' (Screw갯수/Pin갯수) 와 같은 형식으로 적어주시기 바랍니다.
(Screw 갯수 = chuck 고정 1 + 케이스 내 1 = 2)
적힌 갯수가 변하기 전 사용자가 잃어버린 것으로 간주하고 패널티를 적용할 예정이니
사용 전 꼭 부품의 갯수를 확인하시어 불이익을 당하지 않으시기 바랍니다.
5. E-beam Evaporator의 22. 6월 중 교체한 E-beam Power Supply가 기존과 달라 사용 방법이 완전히 달라졌습니다.
따라서 22. 6월 이전 교육받으신 유저는 해당 장비사용에 대한 재교육이 필요합니다.
재교육 받으실 부분은 E-beam 증착 부분입니다.
게시판에서 교체된 manual을 다운 받으실 수 있습니다.
6. XeF2 etcher 장비의 노화로 Gas Line내에 잔류 Gas가 남아 pumping시 설정 압력으로 내려가지 못하는 문제가 발생하고 있습니다.
이 문제를 해결하기 위해 장비 shut down 전 수동으로 Purge를 진행하는 과정이 추가되었습니다.
이에 22. 2월 이전 교육받으신 기존 사용자들께서도 추가된 장비 사용법에 대한 재교육이 필요합니다.
추가된 과정은 공정 완료 후 장비 shut down 전에 진행하는 것으로 장비 사용을 원하시는 유저께서는 장비 예약 전 관리자에게 먼저 문의하여 주시기 바랍니다.
또한 장비 예약은 purge 시간 30분을 추가하여 예약해 주시기 바랍니다.
해당시간은 청구되지 않습니다.
1. 클린룸의 보조 장금 창치는 정전 등의 이유로 클린룸 폐쇄시 사용하며, 평소에는 사용하지 않습니다.
유저들은 기존과 동일하게 에스원카드로 출입하시면 되며,
유저에게 비밀번호는 공유하지 않습니다.
보조 잠금장치가 작동중일 때 유저의 출입을 금합니다.
2. 클린룸 청소 과정에서 장비 및 악세스플로어 아래에서 다수의 유리와 카본테잎이 발견되었습니다.
사용자의 안전과 원활한 연구 활동을 위해
유리를 떨어뜨리신 경우 꼭! 회수 및 청소기로 청소해 주시기 바라며,
카본 테이프 사용시 바닥에 버리지 마시고 꼭 쓰레기통을 이용해 주시기 바랍니다.
3. Wet bench의 유기 폐수 싱크의 거름망이 파손되어 커버 글라스, 카본테이프, 웨이퍼 등의 이물질을 미리 거르지 않고
폐수를 버릴 경우 배수 라인이 막히게 됩니다. (실제 배수라인은 1/4" 정도로 싱크 구멍보다 작습니다.)
유기 폐수를 버리기 전 꼭 이물질을 미리 걸러주시기 바랍니다.
또한 Wet bench앞 의자 사용은 불가합니다.
발견시 경고조치하며, 페널티를 받으실 수 있습니다.
4. Maskless Aligner 사용중 Sample Fixation 과정에서
Chuck의 위치고정 Pin과 Screw를 잃어버리는 일이 빈번히 발생하고 있습니다.
4인치 웨이퍼를 사용하는 경우에만 아래쪽 Screw를 제거하시고
실험이 끝난 경우 다시 Screw를 장착해 주시기 바랍니다.
조각 Sample을 사용하는 경우에는
실험이 끝난 후에도 Screw부분을 따로 만지실 필요가 없습니다.
4인치 웨이퍼를 사용하는 경우 외에는 절대 Screw를 제거하지 마십시오.
모든 조각샘플은 Screw 하나만 필요합니다.
또한, 분실시 장비 사용 부주의로 패널티 적용 예정입니다.
사용전 로그북 날짜 왼쪽 빈공간에 현재 부품 갯수를 '2/5' (Screw갯수/Pin갯수) 와 같은 형식으로 적어주시기 바랍니다.
(Screw 갯수 = chuck 고정 1 + 케이스 내 1 = 2)
적힌 갯수가 변하기 전 사용자가 잃어버린 것으로 간주하고 패널티를 적용할 예정이니
사용 전 꼭 부품의 갯수를 확인하시어 불이익을 당하지 않으시기 바랍니다.
5. E-beam Evaporator의 22. 6월 중 교체한 E-beam Power Supply가 기존과 달라 사용 방법이 완전히 달라졌습니다.
따라서 22. 6월 이전 교육받으신 유저는 해당 장비사용에 대한 재교육이 필요합니다.
재교육 받으실 부분은 E-beam 증착 부분입니다.
게시판에서 교체된 manual을 다운 받으실 수 있습니다.
6. XeF2 etcher 장비의 노화로 Gas Line내에 잔류 Gas가 남아 pumping시 설정 압력으로 내려가지 못하는 문제가 발생하고 있습니다.
이 문제를 해결하기 위해 장비 shut down 전 수동으로 Purge를 진행하는 과정이 추가되었습니다.
이에 22. 2월 이전 교육받으신 기존 사용자들께서도 추가된 장비 사용법에 대한 재교육이 필요합니다.
추가된 과정은 공정 완료 후 장비 shut down 전에 진행하는 것으로 장비 사용을 원하시는 유저께서는 장비 예약 전 관리자에게 먼저 문의하여 주시기 바랍니다.
또한 장비 예약은 purge 시간 30분을 추가하여 예약해 주시기 바랍니다.
해당시간은 청구되지 않습니다.