클린룸 리소(Lithography, milling) 장비
필드 방사 주사형 전자 현미경 FE-SEM(Field Emission-Scanning Electron Microscope
모델명 | MIRA3 XMH |
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제조사(제조국) | TESCAN (Czech Republic) |
구입연도(제작연도) | 2013-08-09 |
용도 | E-beam lithography, Image, EDS 용도 |
사용료 | 10,000원/h |
장소 | 22-118 |
성능● 전자선을 샘플 표면에 주사하여 전자선이 한곳에 집중되면 1차 전자만 굴절되고 표면에서 발생된 2차 전자를 수집하여 그 신호들을 형상화 시키는 현미경
● EDS(Energy Dispersive Spectrometer)가 부착되어 있어 시편의 성분과 표면에 관한 연구 수행이 가능 ● Resolution in high-vacuum mode : SE : 1.2nm at 30keV , STEM : 0.8nm at 30keV ● Resolution in low-vacuum mode : BSE : 2.0nm at 30keV ● Working vacuum ● chamber high vacuum mode : <9*10^-3Pa ● chamber low vacuum mode (available only for UniVac) : 7-500Pa ● gun vacuum : <3*10^-7Pa ● Electron optics working modes high-vacuum mode : Resolution, Depth, Field, Wide field, channelling low-vacuum mode : Resolution, Depth ● Magnification : continuous from : 1*1,000,000*(XM) (for 5“ image width in continual Wide field / Resolution mode) ● Field of view : 6.4mm at WD 10mm ● Accelerating / landing voltage : 200V to 30kV ● Electron gun : High brightness schottky Emitter ● Probe current : 2pA to 200nA ● Scanning speed : From 20ns to 10ms per pixel adjustable in steps or continuously |
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