서울대학교 응용물리연구소

보유장비 및 예약

물성분석실 1. Device Fabrication

RF & DC Magnetron Sputter RF & DC Magnetron Sputter

모델명 KVS-5000L
제조사(제조국) 코리아바큠테크(주)
구입연도(제작연도) 2013-05-03
용도 Metal and Oxide Deposition
사용료 유저등록비 및 장비사용료 참고
장소 19-409
비고 소스 제공, Au 사용료 부과

성능

  • 금속 및 산화물 진공 증착용 장비
  • Deposition sample size : 조각 시편 ~ 2 inch
  • System control : PLC based PC auto
  • System Safety : 진공냉각수압축공기와 시스템 간 안전 연동 방식
  • Main Chamber + Loadlock Chamber
  • Sputtering source : 6 set (SiO2, BTO, Nb, TiN, Nb, Au)
  • Heating temperature and uniformity : ±5, ~1000
  • Deposition uniformity : <±3%
  • Ultimate Pressure : 5.0E-9Torr
RF & DC Magnetron Sputter 사진

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