서울대학교 응용물리연구소

보유장비 및 예약

클린룸 증착(Deposition) 장비

원자 적층기(ALD)-공지 확인 ALD(Atomic Layer Deposition)

모델명 Lucida D100
제조사(제조국) NCD(Kor)
구입연도(제작연도) 2014-02-18
용도 Ultra-thin film deposition with good thickness uniformity and conformal step coverage
사용료 30,000원/h
장소 22-220
비고 80~150C° 저온공정 불가, 150~250C° 사용 가능

성능

● Deposition materials: Al2O3, HfO2
● Wafer size: 4“ 이내 (조각 시편 사용 가능)
● Substrate temperature: 25C°–350C°
● Substrate Size : 100~200 mm
● Substrate Temperature: 25℃ ~ 350 ℃ (± 0.2 ℃) @ 1Torr, in wafer
● Precursor Sources : 3 (heated 2 sources and H2O source)
● Deposition Uniformity : <±2%
● Footprint : 950 x 700 mm
● Compatibility :Clean room class 100
● Control System: PC control base (full auto)
● Optional : Up to 4 heated sources
● Optional : Lucida cooler (2ch)
원자 적층기(ALD)-공지 확인 사진

예약안내

로그인 후 장비를 예약할 수 있습니다.