서울대학교 응용물리연구소

보유장비 및 예약

물성분석실 1. Device Fabrication

Ion Miller Ion Miller

모델명 KVET-IM2000L
제조사(제조국) 코리아바큠테크(주)
구입연도(제작연도) 2014-04-03
용도 Material Etching
사용료 유저등록비 및 장비사용료 참고
장소 19-420

성능

  • Etching source : O2, Ar
  • Etching uniformity : < ±5%
  • Wafer size : 2.5“ 이내
  • Etching Speed : 0.75 ~ 10Å/sec@Ta (탄탈륨)
  • Loadlock chamber System
  • Ultimate Pressure : <2.3E-6Torr
Ion Miller 사진

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