서울대학교 응용물리연구소

보유장비 및 예약

물성분석실 6. Sample Synthesis & Growth

PECVD Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition

모델명 JPEC-2000
제조사(제조국) 제이하라
구입연도(제작연도) 2014-09-01
용도 화학 기상 증착 방법을 통한 시료 성장
사용료 유저등록비 및 장비사용료 참고
장소 19-419
비고 정기적으로 사용할 의사가 있을 경우 물성분석실로 연락 바람

성능

  • 장비 구성

- 메인 챔버 1set, 로드락 챔버 1set

- 펌핑 시스템 1set

- 가스공급 시스템 1set

- 시스템 제어 1set

 

  • 기능

- 기판 사이즈 : 4inch

- 온도 범위 : 700 ~ 1000

- 온도 균일도 : ±6% 이하

- 진공도 : 메인 챔버 5E-6 Torr 이하, 로드락 챔버 5E-2Torr 이하

 

  • 메인 챔버

- 메인 챔버 사이즈 : 450(OD)×400(H)

- 주요 공정 가스: Ar, H2, CH4

- 공정 온도 : 30 ~ 1000,

- 공정 압력 : mTorr ~ 수백 mTorr

 

  • 로드락 챔버

- 기판의 교환 작업 진행.

- 최대 진공도 : 5E-2 Torr

- 로드락 챔버의 재질 : SUS304

 

  • 펌핑 시스템

- 고진공펌프 (Turbo Molecular Pump, 1,000liter/sec)와 로터리펌프(1,000liter/min)

- 로드락 챔버 : 로타리 펌프(400liter/min) 장착

 

  • 가스공급 시스템

- 주요 공정 가스 : 기본적으로 Ar(300sccm), H2(300sccm), CH4(5sccm)를 사용

 

  • 시스템 제어

- PLC를 기반으로 한 PC 제어 시스템 : 모든 공정 변수가 PC상에서 모니터링 됨

 

  • Performance

- 최종 진공도 : 8E-7 Torr 이하

- 공정압력 : mTorr ~ 수백 mTorr

PECVD 사진

예약안내

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